- Код статьи
- S30345731S1028096025020129-1
- DOI
- 10.7868/S3034573125020129
- Тип публикации
- Статья
- Статус публикации
- Опубликовано
- Авторы
- Том/ Выпуск
- Том / Номер выпуска 2
- Страницы
- 91-100
- Аннотация
- Система Cu-Si важна для широкого спектра технологических применений. Настоящая работа посвящена исследованию влияния содержания меди на формирование фаз субоксидов кремния в пленках Cu-Si, полученных ионно-лучевым распылением. По данным рентгеновской дифракции и ультрамягкой рентгеновской эмиссионной спектроскопии в пленке с низким содержанием меди (~15 мас. %) кремний частично находится в аморфном состоянии, а частично окисляется, формируя субоксид SiO. В пленках с высоким содержанием меди Cu (~65 мас. %) формируется фаза CuSi, которая при.водит к возникновению фаз диоксида SiOи субоксида SiO как в приповерхностных, так и в более глубоких слоях. Результаты исследования с помощью. рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии указывают на формирование преимущественно кремний-кислородных тетраэдров типа Si-SiO и SiO в образцах, содержащих ~15 мас. % Cu, и более богатых кислородом кремний-кислородных тетраэдров типа Si-SiO в образцах с ~65 мас. % Cu, как на поверхности, так и в глубоких слоях пленок Cu-Si.
- Ключевые слова
- ионно-лучевое распыление пленки Cu-Si CuSi [CuSi] ультрамягкая рентгеновская эмиссионная спектроскопия рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия
- Дата публикации
- 12.07.2024
- Год выхода
- 2024
- Всего подписок
- 0
- Всего просмотров
- 57
Библиография
- 1. Kammer C. Aluminum and aluminum alloys. // Springer Handbook of Materials Data. / Ed. Warlimont H., Martienssen W. Springer, 2018. P. 157. https://doi.org/10.1007/978-3-319-69743-7_6
- 2. Parajuli O., Kumar N., Kipp D., Hahm J.I. // Appl. Phys. Lett. 2007. V. 90. P. 1. https://doi.org/10.1063/1.2730578
- 3. Ahn H.J., Kim Y.S., Kim W.B., Sung Y.E., Seong T.Y. // J. Power Sources. 2006. V. 163 P. 211. https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2005.12.077
- 4. Li H., Huang X., Chen L., Zhou G., Zhang Z., Yu D., Jun Mo Y., Pei N. // Solid State Ionics. 2000. V. 135. P. 181. https://doi.org/10.1016/S0167-2738 (00)00362-3
- 5. Su K., Luo J., Ji Y., Jiang X., Li J., Zhang J., Zhong Z., Su F.// J. Solid State Chem. 2021. V. 304. P. 122591. https://doi.org/10.1016/j.jssc.2021.122591
- 6. Stolt L., Charai A., D’Heurle F.M., Fryer P.M., Harper J.M.E. // J. Vac. Sci. Technol. A Vacuum, Surfaces, Film. 1991. V. 9 P. 1501. https://doi.org/10.1116/1.577653
- 7. Liu Y., Song S., Mao D., Ling H., Li M. // Microelectron. Eng. 2004. V. 75. P. 309. https://doi.org/10.1016/j.mee.2004.06.002
- 8. An Z., Kamezawa C., Hirai M., Kusaka M., Iwami M. // J. Phys. Soc. Japan. 2002. V. 71. P. 2948. https://doi.org/10.1143/JPSJ.71.2948
- 9. Wang J., Xu X., Ding C., Liu T., Dai Z., Qin H. // 2021 22nd Int. Conf. Electron. Packag. Technol. ICEPT. 2021. V. 1. P. 1. https://doi.org/10.1109/ICEPT52650.2021.9567953
- 10. Somaiah N., Kanjilal A., Kumar P. // MRS Commun. 2020. V. 10. P. 164. https://doi.org/10.1557/mrc.2020.6
- 11. Liu C.S., Chen L.J. // J. Appl. Phys. 1993. V. 74. P. 5501. https://doi.org/10.1063/1.354205
- 12. Parditka B., Verezhak M., Balogh Z., Csik A., Langer G.A., Beke D.L., Ibrahim M., Schmitz G., Erdélyi Z. // Acta Mater. 2013. V. 61. P. 7173. https://doi.org/10.1016/j.actamat.2013.08.021
- 13. Ibrahim M., Balogh-Michels Z., Stender P., Baither D., Schmitz G. // Acta Mater. 2016. V. 112. P. 315. https://doi.org/10.1016/j.actamat.2016.04.041
- 14. Guillet S., Regalado L.E., Lopez-Rios T., Cinti R. // Appl. Surf. Sci. 1993. V. 65/66. P. 742. https://doi.org/10.1016/0169-4332 (93)90748-Z
- 15. Sufryd K., Ponweiser N., Riani P., Richter K.W., Cacciamani G. // Intermetallics. 2011. V. 19. P. 1479. https://doi.org/10.1016/j.intermet.2011.05.017
- 16. Hallstedt B., Gröbner J., Hampl M., Schmid-Fetzer R. // Calphad Comput. Coupling Phase Diagrams Thermochem. 2016. V. 53. P. 25. https://doi.org/10.1016/j.calphad.2016.03.002
- 17. Mattern N., Seyrich R., Wilde L., Baehtz C., Knapp M., Acker J. // J. Alloys Compd. 2007. V. 429. P. 211. https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2006.04.046
- 18. Chromik R.R., Neils W.K., Cotts E.J. // J. Appl. Phys. 1999. V. 86. P. 4273. https://doi.org/10.1063/1.371357
- 19. Polat D.B., Eryilmaz L., Keleş Ö. // ECS Meet. Abstr. MA. 2014. P. 433. https://doi.org/10.1149/ma2014-02/5/433
- 20. Polat B.D., Eryilmaz O.L., Keleş O., Erdemir A., Amine K., // Thin Solid Films. 2015. V. 596. P. 190. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2015.09.085
- 21. Sarkar D.K., Dhara S., Nair K.G.M., Chaudhury S.// Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B. 2000. V. 161. P. 992. https://doi.org/10.1016/S0168-583X (99)00774-0
- 22. Gumarov A.I., Rogov A.M., Stepanov A.L. // Compos.Commun. 2020. V. 21 P. 8. https://doi.org/10.1016/j.coco.2020.100415
- 23. Pászti Z., Petö G., Horváth Z.E., Karacs A., Guczi L. // J. Phys. Chem. B. 1997. V. 101. P. 2109. https://doi.org/10.1021/jp961490d
- 24. Benouattas N., Mosser A., Raiser D., Faerber J., Bouabellou A. // Appl. Surf. Sci. 2000. V. 153. P. 79. https://doi.org/10.1016/S0169-4332 (99)00366-9
- 25. Benouattas N., Mosser A., Bouabellou A. // Appl. Surf. Sci. 2006. V. 252. P. 7572. https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2005.09.010
- 26. Saad A.M., Fedotov A.K., Fedotova J.A., Svito L.A., Andrievsky B.V., Kalinin Y.E., Fedotova V. V., Malyutina-Bronskaya V., Patryn A.A., Mazanik A.V., Sitnikov A.V. // Phys. Status Solidi C Conf. 2006. V. 3. P. 1283. https://doi.org/10.1002/pssc.200563111
- 27. Svito I., Fedotov A.K.F., Koltunowicz T.N., Zukowski P., Kalinin Y., Sitnikov A., Czarnacka K., Saad A. // J. Alloys Compd. 2015. V. 615. P. S371. https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2014.01.136
- 28. Domashevskaya E.P., Mahdy M.A., Ivkov S.A., Sitnikov A.V., Mahdy I.A. // Mater. Chem. Phys. 2022. V. 277. P. 125480. https://doi.org/10.1016/j.matchemphys.2021.125480
- 29. Terekhov V.A., Domashevskaya E.P., Kurganskii S.I., Nesterov D.N., Barkov K.A., Radina V.R., Velichko K.E., Zanin I.E., Sitnikov A.V., Agapov B.L. // Thin Solid Films. 2023. P. 772. P. 139816. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2023.139816
- 30. Ситников А.В. // Альтернативная энергетика и экология. 2003. № S2. P. 114.
- 31. Agarwal B.K. X-Ray Spectroscopy. // Springer Series in Optical Sciences. / Springer Berlin, Heidelberg, 1991. P. 421. https://doi.org/10.1007/978-3-662-14469-5
- 32. Зимкина Т.М., Фомичев В.А. Ультрамягкая рентгеновская спектроскопия. / Ред. Порай-Кошиц Е.А. Изд-во Ленинградского университета, 1971. С. 132.
- 33. Terekhov V.A., Kashkarov V.M., Manukovskii E.Yu., Schukarev A.V., Domashevskaya E.P. // J. Electron Spectros. Relat. Phenomena. 2001. V. 114-116. P. 895. https://doi.org/10.1016/S0368-2048 (00)00393-5
- 34. Zimmermann P., Peredkov S., Abdala P.M., De Beer S., Tromp M., Müller C., van Bokhoven J.A. // Coord. Chem. Rev. 2020. V. 423. P. 213466. https://doi.org/10.1016/j.ccr.2020.213466
- 35. Baker A.D., Brundle C.R. Electron Spectroscopy: Theory, Experiments and Applications. Academic Press, 1978. P. 361.
- 36. Hufner S. Photoelctron Spectroscopy: Principles and Applications. // Springer Series in Solid-State Sciences. V. 82. / Ed. Lotsch K.V. Springer Science & Business Media, 2013. P. 515. https://doi.org/10.1007/978-3-662-03150-6
- 37. Himpsel F.J., McFeely F.R., Taleb-Ibrahimi A., Yarmoff J.A., Hollinger G. // Phys. Rev. B. 1988. V. 38. P. 6084. https://doi.org/10.1103/PhysRevB.38.6084
- 38. Joint Committee on Powder Diffraction Standards (JCPDS) (2024) International Centre for Diffraction Data, USA. https://www.icdd.com/
- 39. Solberg J.K. // Acta Crystallogr. Sect. A. 1978. V. 34. P. 684-698. https://doi.org/10.1107/S0567739478001448.
- 40. Wiech G., Feldhütter H.O., Šimůnek A. // Phys. Rev. B. 1993. V. 47. P. 6981. https://doi.org/10.1103/PhysRevB.47.6981.
- 41. Moulder J.F. Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy: A Reference Book of Standard Spectra for Identification and Interpretation of XPS Data / Ed. Chastain J. Physical Electronics Division, Perkin-Elmer Corporation, 1992. P. 261.
- 42. Fang D., He F., Xie J., Xue L. // J. Wuhan Univ. Technol. Mater. Sci. Ed. 2020. V. 35. P. 711. https://doi.org/10.1007/s11595-020-2312-7.
- 43. Banholzer W.F., Burrell M.C. // Surf. Sci. 1986. V. 176. P. 125. https://doi.org/10.1016/0039-6028 (86)90167-6.
- 44. Hollinger G., Himpsel F.J. // J. Vac. Sci. Technol. A Vacuum, Surfaces, Film. 1983. V. 1 P. 640. https://doi.org/10.1116/1.572199.
- 45. Huang H.Y., Chen L.J. // Appl. Phys. Lett. 2000. V. 88. P. 1412. https://doi.org/10.1063/1.373832
