Развита методика обработки сигнала, полученного с помощью рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии, основанная на расшифровке как области пиков, так и примыкающей к пикам области потерь энергии фотоэлектронов. Методика основана на методе парциальных интенсивностей. Результаты расчета парциальных коэффициентов, полученных в малоугловом приближении, находятся в хорошем соответствии с расчетами, выполненными на основе моделирования методом Монте-Карло. Отметим, что время расчета с помощью полученных предложенным методом аналитических выражений значительно меньше времени расчета, традиционно применяемым методом Монте-Карло. Данная методика позволила проанализировать изменения аллотропной структуры материалов, подвергнутых воздействию гелиевой плазмы, имитирующей условия на границе плазма–стенка в термоядерных установках. Исследовано изменение аллотропного вида графита марки МПГ-8 и вольфрама, происходящее под воздействием плазмы. Показано, что поверхность образца МПГ-8 в результате воздействия плазмы приобретает структуру пиролитического графита. Установлено, что диэлектрическая проницаемость вольфрама при возникновении на поверхности образца вольфрамового “пуха” под действием плазмы не изменяется. Стоит отметить возникновение слоя карбида вольфрама в результате воздействия плазмы.
Индексирование
Scopus
Crossref
Высшая аттестационная комиссия
При Министерстве образования и науки Российской Федерации