By this author

On the Features of the Formation of Polar Distribution of Sputtered Atoms in the MD Model of the (001) Ni Face Sputtering

Issue number 3 from 12.01.2025

С помощью современной полной молекулярно-динамической модели распыления монокристаллов с учетом падения ионов на поверхность исследованы механизмы формирования распределения по полярному и азимутальному углам вылета атомов, распыленных с поверхности грани (001) Ni ионами Ar с энергией 200 эВ. Показано, что распыленные атомы, перефокусированные по азимутальному углу, вылетают только вблизи направлений, соответствующих направлениям на центры линз из двух атомов - ближайших к эмитируемому атому соседей в плоскости поверхности. Обнаружено, что в полярном угловом распределении распыленных атомов с энергией 2.5±0.1 эВ в интервале азимутального угла 87°±1.5°, близкого к центру линзы, наблюдаются три максимума, сформированные атомами с различными механизмами вылета. Сделан вывод о том, что эти максимумы возникают только за счет поверхностного механизма распыления монокристалла.

44 0